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先进表面处理技术研究所

来源:机械工程学院编辑:admin发布时间:08-11-01浏览次数:

一、简介

 

表面工程技术是材料和机械制造领域近年来迅速崛起的新兴边缘学科。可以毫不夸张地说,在现代机械设备中,没有一个金属零件不是经过表面处理就可以使用的。同时,在改造传统产业,提高现有材料的使用寿命方面,表面技术也发挥着巨大的作用。据国家有关部门的不完全统计,我国各种机械产品的零件由于磨损和腐蚀等造成的直接和间接损失每年高达4000亿元以上。因此,如何采用各种先进的表面处理技术大幅度地提高机器零件耐磨性和使用寿命,是本中心最重要的研究任务。

江南大学先进表面处理技术研究中心的建设主要面向长江三角洲地区,满足该地区经济建设发展的需要,研究和开发有影响、有创新的表面工程关键技术,重点开发各类低成本、无污染和高性能的表面技术并提供相关的技术服务,努力把本中心建设成为长江三角洲地区表面工程技术领域的研究开发基地、成果转化基地、人才培养基地和学术交流中心。

 

二、主要研究方向

 

1. 集成电路芯片化学机械抛光机理

2. 机械零件超精密工业抛光技术

3. 金属零件先进表面处理技术

4. 清洁生产技术

5. 摩擦学基础和应用研究,材料摩擦磨损机理及其减摩抗磨技术

 

三、主要研究成果:

 

多项国家自然科学基金和美国国家自然科学基金资助的课题。例如:

1. 清华大学摩擦学国家重点试验室开放基金

2. 江苏省自然科学基金

3. 美国国家自然科学基金

4. 教育部回国人员启动基金

5. 教育部重点项目

6. 江南大学重点资助项目

 

研究工作同时得到了美国航空航天局(NASA) ,福特,杜邦,美孚,北京吉普,一汽锡柴,无锡亿利大,无锡猫头鹰纺器等公司的资助。

ASME Journal of Tribology Transactions of Tribology Applied Surface ScienceWear等国内外一流的专业杂志上,发表了百余篇高水平的论文,其中SCIEI收录论文有几十篇。例如:

 

1. Wang Yongguang, Zhao Yongwu . Modeling effect of chemical-mechanical synergy on material removal at molecular scale in chemical mechanical polishing. Wear. 10.1016/j.wear.2008.01.001 2008 (SCI)

2. Wang Yongguang, Zhao Yongwu. Study on the molecular scale removal mechanism in chemical mechanical polishing.  Chinese Science Bulletin. 2008 (SCI)

3. 王永光,赵永武. 化学机械抛光材料分子去除机理的研究. 科学通报. 2008

4. Wang Yongguang, Zhao Yongwu, Li Xufang. Modeling the effects of abrasive size, surface oxidizer concentration and binding energy on chemical mechanical polishing at molecular scale. Tribology International. 2008, 41:202-210 (SCI)

5. Bai Jing, Zhao Yongwu. A mathematical model for material removal and chemical-mechanical synergy in chemical-mechanical polishing at molecular scale. Applied Surface Science. 2007, 253:8489-8494 (SCI)

6. Wang Yongguang, Zhao Yongwu. Modeling the effects of oxidizer, complexing agent and inhibitor on material removal for copper chemical mechanical polishing. Applied Surface Science. 2007, 254:1517-1523 (SCI)

7. Wang Yongguang, Zhao Yongwu, An Wei, et al. Modeling the effects of cohesive energy for single particle on the material removal in chemical mechanical polishing at atomic scale. Applied Surface Science. 2007, 2539137-9141 (SCI)

8. Wang Yongguang, Zhao Yongwu. A new nonlinear-micro-contact model for single particle in the chemical mechanical polishing with soft pad. Journal of Materials Processing Technology. 2007, 183: 374-379 (SCI)

9. 赵永武. 新的粗糙表面弹塑性接触模型.机械工程学报.20074395-101. (EI)

10. 赵永武. 半导体芯片化学机械抛光过程中材料去除机理研究进展. 摩擦学学报. 2004, 24(3):283-287 (EI)

11. Zhao Y W, Chang L, Kim S H. A mathematical model for chemical-mechanical polishing based on formation and removal of weakly bonded molecular species. Wear. 2003,254332-339.(SCI)

 

四、主要研究人员:

 

1. 赵永武 男 1962, 博士 教授 摩擦学 材料 表面工程 中心负责人

2. 李庆忠 男 1965,博士 教授 表面工程 超精密加工

3. 刘利国 男 1962,硕士 副教授 表面技术 摩擦学

4.   伟 男 1968, 博士 副教授 摩擦学 表面技术

5. 王永光 男 1981, 博士  副教授 表面技术 摩擦学

6. 蒋建忠 男 1972, 博士生 讲师 表面技术

7. 陈晓春 男1966, 博士生 表面技术

 

五、联系方式:

 

江苏省无锡市蠡湖大道1800 214122

江南大学机械工程学院

赵永武教授 13003339036

李庆忠教授 13405770177